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> 射频溅射制备氧化镍电致变色薄膜的研究
射频溅射制备氧化镍电致变色薄膜的研究
射频溅射制备氧化镍电致变色薄膜的研究
资料类型:
PDF文件
关键词:
电致变色
NiOx薄膜
射频溅射
资料大小:
401K
所属学科:
分子表征
来源:
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19,武汉)
简介:
采用射频反应磁控溅射工艺,以纯镍靶为靶材,在SnO2玻璃上制备电致变色NiOx薄膜。通过对薄膜X射线衍射(XRD)、X光电子能谱(XPS)、扫描隧道显微镜(STM)、循环伏安曲线及可见光透过率的测定,探讨了NiOx薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系,研究了热处理过程中的结构变化和表面形貌。测试表明该氧化镍薄膜具有良好的电致变色性能和阳极着色效应,以及较高的使用寿命。
作者:
刘化然,阎刚印,刘 芳,盛英卓,冯博学
上传时间:
2008-09-10 13:07:44
下载次数:
28
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